半导体器件及其制造方法

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用本专利制作的半导体器件有一个硅衬底、一个在硅衬底上形成的包含氧化硅和氧化磷的绝缘膜、和一个在这种绝缘膜上形成的氧化铝保护层。 The semiconductor device manufactured by this patent has a silicon substrate, an insulating film containing silicon oxide and phosphorus oxide formed on the silicon substrate, and an aluminum oxide protective layer formed on the insulating film.
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