为探究花期苦荞在逆境胁迫下的总黄酮含量变化及其响应机理,以川荞3号为材料,研究了盐（Na Cl）、干旱（PEG-6000）及UV-B 3种逆境胁迫对苦荞花期各组织中总黄酮含量的影响,及黄酮合成关键酶基因（CHI、F3H、FLS、FLS1）表达量与花期总黄酮含量之间的关系。结果表明:3种胁迫处理后,根、茎、叶、花中的总黄酮含量均有不同程度的增加。在Na Cl胁迫下,根、茎、叶、花中的总黄酮含量明显增加,且在12 h时叶中达到最高值(160.0 mg·g^-1);当采用PEG-6000处理后,苦荞的根、茎、叶、花中的总黄酮含量均显著升高,且叶、花对PEG-6000胁迫较其它组织敏感;UV-B胁迫也能显著提高苦荞根、茎、叶中的总黄酮含量,且叶中总黄酮含量变化最大,但花中总黄酮含量却呈极显著下降。Real-time PCR分析表明,在上述逆境胁迫下CHI、F3H、FLS及FLS1基因的m RNA量在茎、叶、花中的变化与总黄酮含量变化趋势相一致,推测这些基因可能在花期苦荞对逆境胁迫的适应中发挥重要作用。本研究结果可为解析苦荞在逆境下的响应机制和通过基因工程培育高黄酮苦荞新品种提供理论依据。