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通过分析低压MOS中存在的漏电路径,针对高压LDMOS面积大,最小宽长比有限制的特点,提出了一种更加适用于高压LDMOS的新型抗总剂量辐照结构。器件仿真结果显示,新结构在实现500 krad(Si)的抗辐照能力,并且新结构不会增加面积消耗,与现有工艺完全兼容。
新型抗总剂量辐照高压LDMOS结构
【摘 要】
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通过分析低压MOS中存在的漏电路径,针对高压LDMOS面积大,最小宽长比有限制的特点,提出了一种更加适用于高压LDMOS的新型抗总剂量辐照结构。器件仿真结果显示,新结构在实现500
【机 构】
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电子科技大学
【出 处】
：
电子产品世界
【发表日期】
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2019年11期
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