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衬底温度对磁控溅射氮化铝薄膜组成的影响
衬底温度对磁控溅射氮化铝薄膜组成的影响
来源 :材料导报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Destory
【摘 要】
:
采用高纯铝靶和氮/氩混合气氛,在玻璃衬底上用直流反应磁控溅射法制备了AlN薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)分析了不同衬底温度下样品的组成.结果表明,AlN薄膜主要含有AlN,存在
【作 者】
:
张淑芳
方亮
付光宗
董建新
彭丽萍
【机 构】
:
重庆大学数理学院应用物理系,重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室
【出 处】
:
材料导报
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
氮化铝薄膜
磁控溅射
XPS
AFM
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采用高纯铝靶和氮/氩混合气氛,在玻璃衬底上用直流反应磁控溅射法制备了AlN薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)分析了不同衬底温度下样品的组成.结果表明,AlN薄膜主要含有AlN,存在少量Al2O3及一些其它杂质;随着基片温度的升高,AlN薄膜的纯度提高.
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