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目的分析比较含2个种植体的下颌种植覆盖义齿分别使用球帽附着体和Locator附着体在正中，侧向及前伸糌应力加载时对其种植体和余留牙槽嵴的应力分布差异。方法应用三维光弹实验的方法，在Atwood3级无牙颌模型双侧至尖牙区域内各植入1枚种植体后制作环氧树脂光弹模型，进行3种咬合状态下的1kg垂直加载。应力冻结后，比较两者的应力分布差异。结果正中及前伸糌位加载时，2种附着体均可达到颊舌侧应力分布相近，球帽式牙槽嵴顶应力分布略大；侧向[牙合]加载时，球帽式覆盖义齿较Locator式覆盖义齿工作侧与平衡侧应力差更小