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用磁控反应溅射(RS)法制备出GexC1-x薄膜,它的折射率可在1.6~4.0之间变化,设计出没厚度的GexC1-x均匀增透膜 非均匀增透膜系,并在ZnS基片上制备出GexC1-x均匀增膜系,设计结果表明,均匀膜系实现某-波段范围内增透,非均匀膜系能实现宽波段增透;当厚度增加时,均匀增透膜系的透过率曲线变得急剧振荡,非均匀膜系的透过率曲线变得更为平滑,且向长波段扩展,实现结果表明,在8~11.5μ