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采用扫描电镜(SEM),能谱仪(EDS),X-射线衍射仪(XRD)等方法,研究了U上磁控溅射Ti镀层在600℃,0.5h,150MPa条件下热等静压(HIP)处理对其表面界面特性及界面扩散的影响。结果表明:经HIP处理后,镀层致密性提高,膜基结合强度也提高,U、Ti在界面的扩散受到压力的抑制。
热等静压对铀基钛镀层的影响
【摘 要】
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采用扫描电镜(SEM),能谱仪(EDS),X-射线衍射仪(XRD)等方法,研究了U上磁控溅射Ti镀层在600℃,0.5h,150MPa条件下热等静压(HIP)处理对其表面界面特性及界面扩散的影响。结果表
【机 构】
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表面物理与化学国家重点实验室,中国工程物理研究院,
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2010年S1期
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