【摘 要】
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Nitrogen trifluoride (NF_3) is a recently developedspecialty gas for electronicindustry,and is mainly used as etchant forsemiconductor materials like polysilic
【出 处】
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China Chemical Reporter
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Nitrogen trifluoride (NF_3) is a recently developedspecialty gas for electronicindustry,and is mainly used as etchant forsemiconductor materials like polysilicon,silicon nitride and tungsten silicide,or ascleaning gas for CVD (chemical vapordeposition) chamber in semiconductor chipproduction and LCD panel.In CVD chambercleaning,if compared with
Nitrogen trifluoride (NF_3) is a recently developed special gas for electronic industry, and is mainly used as etchant forsemiconductor materials like polysilicon, silicon nitride and tungsten silicide, or ascleaning gas for CVD (chemical vapordeposition) chamber in semiconductor chipproduction and LCD panel. CVD chambercleaning , if compared with
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