【摘 要】
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在不添加表面活性剂,无模板的情况下,以钼粉和双氧水为原料,采用90℃水浴的方法制备三氧化钼纳米带。用X-射线衍射（XRD）,扫描电子显微镜（SEM）,透射电子显微镜（TEM）对产物进行表征。
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在不添加表面活性剂,无模板的情况下,以钼粉和双氧水为原料,采用90℃水浴的方法制备三氧化钼纳米带。用X-射线衍射（XRD）,扫描电子显微镜（SEM）,透射电子显微镜（TEM）对产物进行表征。结果表明,反应产物均为三氧化钼纳米带,且纳米带尺寸均匀,宽度为80～100nm,厚度为20nm,长度为5～30μm。研究还发现,合成条件如反应时间,反应介质对产物的形貌有一定影响。
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