【摘 要】
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真空蒸发沉积特薄铝箔的方法是在真空下将铝丝加热到蒸发点使铝蒸发,然后沉积在冷却的、运动的介质上,形成一极薄连续均匀的膜,并用化学方法将膜从介质上分离下来,从而制得特薄铝
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真空蒸发沉积特薄铝箔的方法是在真空下将铝丝加热到蒸发点使铝蒸发,然后沉积在冷却的、运动的介质上,形成一极薄连续均匀的膜,并用化学方法将膜从介质上分离下来,从而制得特薄铝箔,箔的厚度是通过控制真空度、介质运动速度、铝丝送料速度来完成的。能制得0.5~5μm的特薄铝箔
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