【摘 要】
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用FTIR和WAXD法研究了甲苯 2 ,4 二异氰酸酯 (TDI)的邻位和对位异氰酸酯基团与蒙脱土表面羟基的修饰反应 ,在此基础上提出了结构模型 ;用TDI修饰后的蒙脱土成功制备了插层型
【机 构】
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中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室!北京100080,中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室!北京100080,中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验
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用FTIR和WAXD法研究了甲苯 2 ,4 二异氰酸酯 (TDI)的邻位和对位异氰酸酯基团与蒙脱土表面羟基的修饰反应 ,在此基础上提出了结构模型 ;用TDI修饰后的蒙脱土成功制备了插层型聚苯乙烯 /蒙脱土纳米复合材料 ,并用WAXD和TEM进行了表征 .实验结果表明 ,修饰后TDI与蒙脱土表面形成化学键 ,使蒙脱土的片层间距显著增大 ,十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB)在蒙脱土层间由双层平行排列转变为双层脂肪链倾斜方式排列 .在苯乙烯插层聚合过程中 ,蒙脱土层间距进一步扩大 ,其初级粒子在聚苯乙烯基体中的厚度约2 0～ 5 0nm .
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