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用恒电位下的电流时－间记录法研究了非晶态ＮｉＣｒＦｅＳｉＢ合金在ＮａＣｌ溶液中的亚稳态蚀孔的生长动力学行为。恒电位下亚稳孔蚀电流与时间的关系为Ｉ－Ｉ０＝ｋ（ｔ－ｔ０）＾２，ｋ表征亚稳小孔的生长速度。大量亚稳态蚀孔的ｋ值服从对数正态分布，随电位升高，ｋ的平均值和标准差都增大。亚稳蚀孔的峰值电流在恒电位下也服从对数正态分布随电位升高而增大。文中提出一个亚稳态蚀孔生长的两阶段模型，解释了实验结果。