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采用反应磁控溅射法在ITO玻璃上制备氮掺杂氧化钨（WO3：N）薄膜。采用XRD、XPS、AFM对薄膜的结构、成分、结合键和表面形貌进行表征。将WO3：N薄膜封装制成电致变色器件,并采用直流稳压电源和分光光度计对其进行变色调制性能测试。结果表明：制备的WO3：N薄膜为纳米晶结构,其衍射峰位随着含N量的增加而右移;WO3：N薄膜中W、O分别以W6＋和O2-存在,而N以中性价态、WO3中的O位替换以及表面吸附3种状态存在;随着WO3：N薄膜中含N量的升高,表面粗糙度逐渐增大,且有利于器件着色;当掺氮2.80%（