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采用直流等离子体射流ＣＶＤ法在硬质合金基体上沉积了多晶金刚石薄膜，借助ＸＲＤ，Ｒａｍａｎ，光谱、ＳＥＭ和ＥＰＭＡ等对金刚石薄膜及膜－基界面的结构、形貌和成分进行了研究，结果表明，结晶度高的刻面型金刚石薄膜质量、纯主较好，膜－基界面处较致密，机械锚固作用明显，结合性能较好，沉积前后基体表面形貌变化很大，存在数十数米厚的脱钴－等离子体刻蚀层，等离子体刻蚀导致脱钴表面更加凹凸不平，为金刚石形核提供了有利