【摘 要】
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用Ｘ射线射仪测定了在５２１００钢基体上离子束增强沉积ＴｉＮ膜，等离子体化学气相沉积ＴｉＮ膜和离子镀ＴｉＮ膜的应力状态，分析了不同方法制取ＴｉＮ薄膜的应力形成的影响因素，比较了３种薄膜在不同载荷和摩擦速度条
【基金项目】
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中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室基金
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用Ｘ射线射仪测定了在５２１００钢基体上离子束增强沉积ＴｉＮ膜，等离子体化学气相沉积ＴｉＮ膜和离子镀ＴｉＮ膜的应力状态，分析了不同方法制取ＴｉＮ薄膜的应力形成的影响因素，比较了３种薄膜在不同载荷和摩擦速度条件下的摩擦学性能，分析了膜－基界面两侧应力状态对膜－基结合力，薄膜的耐磨性能和磨损机理的影响。结果表明，３种ＴｉＮ／５２１００钢式样在薄膜内的应力均为压应力。但在界面附近基体一侧的应力状态是随着工
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