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从理论和实验上研究了材料功函数对场致发射稳定性的影响。研究发现，功函数是决定材料发射稳定性的主要因素。所得数据表明：（1）尖端功函数越稳定，发射电流波动性就越小；（2）尖端的功函数越小，发射的电流也越稳定，强度也越大，所需要的门极电压越低。这一结论在实验研究中充分地得到证实。实验表明，不需要超高真空条件，经过金膜或铯膜覆盖的钽尖端都有稳定的场发射。