论文部分内容阅读
从理论和实验上研究了材料功函数对场致发射稳定性的影响。研究发现,功函数是决定材料发射稳定性的主要因素。所得数据表明:(1)尖端功函数越稳定,发射电流波动性就越小;(2)尖端的功函数越小,发射的电流也越稳定,强度也越大,所需要的门极电压越低。这一结论在实验研究中充分地得到证实。实验表明,不需要超高真空条件,经过金膜或铯膜覆盖的钽尖端都有稳定的场发射。