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超大规模集成电路中低介电常数薄膜的制备与检测技术
超大规模集成电路中低介电常数薄膜的制备与检测技术
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kangcj66
【摘 要】
:
近年来,低介电常数材料在IC工业中日益受到人们广泛关注,为了降低信号传输延迟和串扰以及由于介电损失而导致的功耗增加,采用低介电常数材料做层间介质是必要的.本文介绍了有
【作 者】
:
温梁
汪家友
杨银堂
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
超大规模集成电路
低介电常数
薄膜
旋涂淀积
化学汽相淀积
low dielectric constant
thin film
spin-on depositi
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近年来,低介电常数材料在IC工业中日益受到人们广泛关注,为了降低信号传输延迟和串扰以及由于介电损失而导致的功耗增加,采用低介电常数材料做层间介质是必要的.本文介绍了有关低介电常数材料薄膜的制备方法和基本特性的检测技术.
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