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选用体积分数为99．9999％的H2及反式-2-丁烯（T2B）为工作气体，利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α—C：H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析，并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp^3／sp^2杂化键比值和sp^3C杂化键分数。结果表明：薄膜中氢含量较高，主要以sp^3C—H形式存在；工作气压越高，制备的薄膜中C=C键含量越少，薄膜中sp^3／sp^2杂化键比值和sp^3C杂化键分数增加，薄膜稳定性提高。应用UV-VIS光谱仪，获得了波长在400～