【摘 要】
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晶圆代工企业上海华虹NEC电子有限公司日前宣布成功开发了0.162微米CMOS图像传感器(CIS162)工艺技术,已进入量产阶段。华虹NEC和关键客户合作共同开发的CIS162工艺是基于标准
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晶圆代工企业上海华虹NEC电子有限公司日前宣布成功开发了0.162微米CMOS图像传感器(CIS162)工艺技术,已进入量产阶段。华虹NEC和关键客户合作共同开发的CIS162工艺是基于标准0.162微米纯逻辑工艺,1.8V的核心器件,3.3V的输入输出电路。经过精细调整集成了4个功能晶体管和光电二
Foundry company Shanghai Hua Hong NEC Electronics Co., Ltd. recently announced the successful development of 0.162-micron CMOS image sensor (CIS162) process technology, has entered mass production stage. Hua Hong NEC and key customers to jointly develop the CIS162 process is based on the standard 0.162 micron pure logic technology, 1.8V core devices, 3.3V input and output circuits. Finely tuned integrated four function transistors and optoelectronics
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