【摘 要】
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采用低压沉积一微弧氧化法，在钛金属表面直接制备了具有生物活性的HATiO2复合膜层，通过XRD和SEM分别分析了膜层的相结构和表面形貌，探讨了沉积参数对膜层中HA含量与表面形貌的影
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采用低压沉积一微弧氧化法，在钛金属表面直接制备了具有生物活性的HATiO2复合膜层，通过XRD和SEM分别分析了膜层的相结构和表面形貌，探讨了沉积参数对膜层中HA含量与表面形貌的影响。结果表明：低压沉积处理是微弧氧化法制备HA—TiO2复合膜层的必要条件；复合膜层主要由金红石型和锐钛矿型TiO2及HA组成，HA以白色团簇状存在于膜层之中，或粘附在陶瓷层表面，膜层中的HA含量随电解液中HA添加量的增加而升高。随HA含量增加，膜层孔洞明显增加；沉积电压从30V增加至120V，HA含量增加；沉积时间超过15mi
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