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对不同组分、阱宽和垒宽的锗硅单量子和多量子阱样品的C-V特性及其与温度的关系进行了测量,并用数值方法解泊松方程模拟计算了单量子阱样品的C-V特性及其C-V载流子浓度分布,实验和模拟计算的结果均表明,C-V载流子浓度分布在量了阱位置有一个深度 高的峰值,它反映了被限制在阱中的载流子的积累,峰高随着量子阱异质界面的能带偏移的增加而增另,低温由于阱中载流子的热发射几率变小,阱中载流子深度的变化跟不上测试