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采用超高真空磁控溅射在Al2O3/Si基底上制备非晶五氧化二钒(V2O5)薄膜,并研究了高温退火对其晶体结构、表面形貌和光学特性的影响.扫描电子显微镜观察表明样品表面平滑致密具有连续性.在可见光波范围内,制备态薄膜在波长497nm处出现反射率的最小值(约18%).经15min高温退火处理后,样品X射线衍射光谱中除基底衍射峰外无其他衍射峰出现,表明样品依旧为非晶态.高温退火后的样品反射率最小值可进一步降低至约6%.上述结果对于以V2O5薄膜为基础的高温光学器件制备和应用有一定借鉴价值.