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目前，对TiAlSiN薄膜在800℃以上的抗高温氧化性研究较少。通过磁控溅射优化工艺在W18Cr4V高速钢基体上制备不同Si含量的TiAlSiN硬质薄膜，针对硬度最高的典型薄膜试样Si含量为16．49％（原子分数），分别在800℃和1000℃下进行保温lh的大气热处理。利用SEM、EDS、XRD和纳米压痕仪对薄膜的形貌、成分、相结构和硬度等进行表征。结果表明：随着si含量从无到有并增加，薄膜硬度呈现上升．下降．上升．陡降．缓降的趋势，当Si含量为16．48％（原子分数）时，薄膜硬度达到最大值26．43GP