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本文评述了控制气氛直流电弧分析高纯稀土氧化物中稀土杂质的工作。讨论了气氛对稀土谱线和背景的影响,最佳光谱测定条件及达到的分析技术指标。
高纯稀土氧化物中痕量稀土杂质的控制气氛发射光谱分析
【摘 要】
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本文评述了控制气氛直流电弧分析高纯稀土氧化物中稀土杂质的工作。讨论了气氛对稀土谱线和背景的影响,最佳光谱测定条件及达到的分析技术指标。
【机 构】
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北京有色金属研究总院北京100088
【出 处】
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分析试验室
【发表日期】
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1990年2期
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