常见磁控溅射靶材利用率及其计算方法的探讨

来源 :核聚变与等离子体物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xuan21456
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探讨了矩形平面、圆形平面和圆柱管这三种常见磁控溅射源的靶材极限利用率的理论计算方法,推出了利用率的近似计算公式,分析了影响利用率的因素。跑道刻蚀形状(宽度和收缩系数)强烈影响平面类静态靶的极限利用率。旋转磁场圆柱管靶材的极限利用率主要决定于靶的自身几何尺寸(壁厚、长度和管径),与跑道的刻蚀形状(即外界的物理因素)几乎没有关系。
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