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期刊论文
极紫外投影光刻掩模技术
极紫外投影光刻掩模技术
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiao531313486
【摘 要】
:
介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光
【作 者】
:
杨雄
金春水
曹健林
【机 构】
:
长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
2003年3期
【关键词】
:
掩模
极紫外投影光刻
缺陷检测
吸收层干刻法
多层膜
extreme ultraviolet
projection lithography
multilay
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介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状.
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