以光探针测量分子束外延的温度

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分子束外延(MBE)用于制作量子阱激光器和其它ⅢⅤ族半导体器件。与通常用于硅基器件制作的离子植入法不同,分子束外延给薄膜生长提供更精密控制。然而,分子束外延的问题之一是缺少可重复性,其部分原因由于测量衬底温度困难。一般情况下,这种温度用热偶测量。为了获得均匀的? Molecular Beam Epitaxy (MBE) is used to make quantum well lasers and other Group III-V semiconductor devices. Unlike ion implantation, which is commonly used in silicon-based devices, molecular beam epitaxy provides more precise control of film growth. However, one of the problems with molecular beam epitaxy is the lack of repeatability, due in part to the difficulty of measuring the substrate temperature. In general, this temperature is measured with a thermocouple. In order to get uniform?
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