HL—1M装置内壁锂涂覆实验

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HL-1M装置运行期间,一直在探索适合本装置的壁处理技术,分别研究了硼化、硅化和锂涂覆技术。其中,硼化、硅化处理技术已经成熟,硅化已成为装置的常规壁处理技术,时涂覆还在探索中。实验表明:HL-1M装置原位锂化后,在蒸发器附近的锂涂层主要是锂蒸汽直接蒸镀形成的多晶锂。锂化中,一部分与石墨孔栏和石墨保护板溅射出的碳和氧反应生成少量的Li2C2、Li2O和Li2CO3或LiHCO3,一部分民本底的氢反应
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