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干燥的目的是去除晶片表面的液体,保证晶片的洁净度。干燥技术作为湿法清洗最后的步骤,最终决定了晶片清洗的表面质量。分别探讨了离心甩干干燥单元、IR干燥、Marangoni干燥等技术,同时介绍了各自的优缺点,这些技术在高洁净湿法批处理清洗设备中都有非常广泛的应用。
晶片干燥技术在高洁净湿法清洗设备中的应用
【摘 要】
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干燥的目的是去除晶片表面的液体,保证晶片的洁净度。干燥技术作为湿法清洗最后的步骤,最终决定了晶片清洗的表面质量。分别探讨了离心甩干干燥单元、IR干燥、Marangoni干燥
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2020年1期
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