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采用磁控溅射法在Si衬底上制备了SiO2介质膜，系统地研究了SiO2膜引入对Ag纳米颗粒的表面覆盖率、形貌、形成机理和光学性质的影响．研究发现引入SiO2介质膜后，Ag纳米颗粒的表面覆盖率显著增加，平均粒径明显降低．基于现有的Ag纳米颗粒形成机理，提出了粗糙表面Ag膜断裂模型以解释其形貌发生变化的原因．紫外一可见光分光光度计测试表明，引入Si02膜并优化其厚度，可使Ag纳米颗粒的偶极消光峰最大红移86nm，但消光峰强度明显下降．数值模拟计算表明，引入SiO2膜的Ag纳米颗粒所能散射的光子数量最小减少2&#