【摘 要】
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采用UV/TiO2工艺去除磺胺甲(口恶)唑(SMX),研究了SMX在纳米TiO2(Degussa P-25)悬浆体系中的光催化去除效果,考察了TiO2投加量、SMX初始质量浓度、pH值、CO32-和叔丁醇等因素
【机 构】
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同济大学污染控制与资源化研究国家重点实验室,上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司
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采用UV/TiO2工艺去除磺胺甲(口恶)唑(SMX),研究了SMX在纳米TiO2(Degussa P-25)悬浆体系中的光催化去除效果,考察了TiO2投加量、SMX初始质量浓度、pH值、CO32-和叔丁醇等因素对SMX去除效果的影响.结果表明,UV/TiO2工艺可以有效地去除水中的SMX,其反应过程符合拟一级反应动力学模型.当TiO2投加量为500mg/L,SMX初始质量浓度为5mg/L,反应液pH值为7时,SMX的去除率达到98.76％,反应速率常数k为0.1438min 1,半衰期t1/2为4.82min.相同条件下,反应速率在TiO2投加量为500mg/L时最大,pH7时最大,并随SMX初始质量浓度增加而降低.少量CO32投加不利于SMX的去除,但大量CO32-投加明显促进反应速率.叔丁醇对SMX光催化去除存在显著的抑制效果.同时引入和计算了每一对数减小级电能输入(EEo)指标以评价该工艺的电能利用效率.
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