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化学气相沉积(CVD)是一种重要的薄膜制备工艺,其中微波等离子体辅助化学气相沉积(MP-CVD)被广泛用于制备纳米功能薄膜、硬质薄膜和光学薄膜.介绍一种普适型2.45 GHz微波的MP-CVD系统,包括硬件配置、自动控制软件等,并采用该系统在低温条件下制备高质量石墨烯薄膜.
用于低温生长石墨烯的微波等离子体辅助化学气相沉积系统
【摘 要】
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化学气相沉积(CVD)是一种重要的薄膜制备工艺,其中微波等离子体辅助化学气相沉积(MP-CVD)被广泛用于制备纳米功能薄膜、硬质薄膜和光学薄膜.介绍一种普适型2.45 GHz微波的MP-
【机 构】
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集美大学理学院,厦门大学物理科学与技术学院
【出 处】
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湖北文理学院学报
【发表日期】
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2016年11期
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