基于TRIZ解决PECVD设备中SiN_(χ)在气路中的有害沉积

来源 :承德石油高等专科学校学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:veiri32
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SiNχ膜层作为太阳能电池的减反射膜起到了钝化和减反射的作用。在太阳能电池制备过程中,主要是利用PECVD(等离子体化学气相沉积)设备生长厚度为70~85 nm的SiNχ膜层。然而,随着生产设备连续运行,SiNχ将不断地沉积在特气孔上导致工艺腔室中反应气体均匀性变差,进而影响太阳能电池的转化效率。在实际生产过程中,PECVD设备连续运行约150 h,需要对设备进行约3-4 h的维护,从而降低了该设备的太阳能电池生产率,增加了太阳能电池成本。
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