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该文主要对VDMOS器件用N/N+型外延层工艺进行了分析,从造成过渡区展宽的三种因素进行了重点分析,并采用不同的工艺条件进行了相关的对比试验和研究,总结了外延层过渡区工艺规律并提出了改善方案。
功率VDMOS器件用N/N~+型外延层过渡区的研究
【摘 要】
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该文主要对VDMOS器件用N/N+型外延层工艺进行了分析,从造成过渡区展宽的三种因素进行了重点分析,并采用不同的工艺条件进行了相关的对比试验和研究,总结了外延层过渡区工艺规
【机 构】
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南京电子器件研究所
【出 处】
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科技创新导报
【发表日期】
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2013年31期
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