用离子源技术制备类金刚石膜研究

来源 :中国表面工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cnars

【摘要】

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采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,大面积地在不同基体上制备了光滑、均匀的类金刚石(DLC)膜层,用SEM、Raman、XPS、硬度计、划痕仪等手段分析和研究了膜层的形貌、

【出处】

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中国表面工程

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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类金刚石膜无灯丝离子源非平衡磁控溅射大面积

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采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,大面积地在不同基体上制备了光滑、均匀的类金刚石(DLC)膜层,用SEM、Raman、XPS、硬度计、划痕仪等手段分析和研究了膜层的形貌、结构及部分性能.结果表明:钛的掺入,有利于减少内应力、提高膜/基结合力,膜层的综合性能好,更适合于精密器件的表面改性.

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