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采用热丝化学气相沉积法在玻璃衬底上沉积硅薄膜，采用扫描电子显微镜、拉曼光谱分析表征样品的形貌和结晶性，较为系统地研究了硅烷浓度、衬底到热丝的距离对硅薄膜生长过程及各种性质的影响，结果表明，较高的衬底温度及较低的硅烷浓度有利于薄膜的结晶。
HWCVD在玻璃衬底上沉积硅薄膜的研究
【摘 要】
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采用热丝化学气相沉积法在玻璃衬底上沉积硅薄膜，采用扫描电子显微镜、拉曼光谱分析表征样品的形貌和结晶性，较为系统地研究了硅烷浓度、衬底到热丝的距离对硅薄膜生长过程及各
【机 构】
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兰州大学物理科学与技术学院
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2010年1期
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