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本文分析了以正硅酸乙酯溶液为源，用等离子体增强化学汽相沉积法淀积的氧化硅膜的成分与电荷等特性，以及淀积和退火工艺条件对这些特性的影响。
PETEOS氧化硅膜的成分与电荷特性
【摘 要】
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本文分析了以正硅酸乙酯溶液为源，用等离子体增强化学汽相沉积法淀积的氧化硅膜的成分与电荷等特性，以及淀积和退火工艺条件对这些特性的影响。
【机 构】
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华东师范大学电子系
【出 处】
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华东师范大学学报：自然科学版
【发表日期】
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1996年3期
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