石墨在高纯氦中的高温氧化研究

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研究了石墨在高纯氦中的氧化动力学行为。氧化后的样品用扫描电子显微镜进行分析,对可能的氧化机制进行了讨论。实验结果表明:高纯度、高强度、高密度石墨,即“三高”石墨在800℃高纯氦中的氧化速率最低,等静压石墨次之,010石墨最高 The oxidation kinetics of graphite in high purity helium was studied. Oxidized samples were analyzed by scanning electron microscopy, and possible oxidation mechanisms were discussed. The experimental results show that the oxidation rate of high-purity, high-strength and high-density graphite, ie, “three-high” graphite, is the lowest in the high-purity helium at 800 ℃, followed by isostatic graphite,
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