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直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术
直接观察位错结构的扫描电镜电子通道衬度技术
来源 :材料研究学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zbtoy
【摘 要】
:
介绍了扫描电镜电子通道衬度技术,该技术可以很好地观察材料中位错结构、用这种技术观察受循环载荷作用的铜单晶中的典型位错结构,与常规的TEM方法观察结果基本一致。
【作 者】
:
胡运明
陈道伦
【机 构】
:
中国科学院金属研究所
【出 处】
:
材料研究学报
【发表日期】
:
1997年3期
【关键词】
:
扫描电镜
电子通道衬度技术
铜单晶体
位错结构
scanning electron microscope electron channeling contras
【基金项目】
:
国家自然科学基金!19392300-4
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介绍了扫描电镜电子通道衬度技术,该技术可以很好地观察材料中位错结构、用这种技术观察受循环载荷作用的铜单晶中的典型位错结构,与常规的TEM方法观察结果基本一致。
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