【摘 要】
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微弧氧化技术是借助微弧等离子体放电产生瞬时高温高压,在材料表面原位生成具备陶瓷相结构的氧化膜层,氧化膜层致密度高、耐蚀性好,能显著增强基体材料表面性能。文章主要介
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微弧氧化技术是借助微弧等离子体放电产生瞬时高温高压,在材料表面原位生成具备陶瓷相结构的氧化膜层,氧化膜层致密度高、耐蚀性好,能显著增强基体材料表面性能。文章主要介绍铝合金材料表面微弧氧化工艺原理及膜层结构特点,论述材料表面陶瓷层性能,讨论分析微弧氧化工艺目前发展所存在的瓶颈问题,探讨分析了未来研究方向。
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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技
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