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对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入均匀性指标.
强流氧离子注入机注入均匀性分析及提高
【摘 要】
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对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入
【机 构】
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中国电子科技集团第四十八研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
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2005年4期
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