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采用微波等离子体方法在铜片上沉积了多晶金刚石薄膜，用该薄膜制成的场致发射体的开启电压较低，发射电流密度较高。利用自制的场致发射阵列阴极高真空测试台测试了1～100 mA／cm2的发射电流密度特性，对应的电场强度为2.0～3.5 MV／m。从拟合F-N公式得到的功函数Φ≈0.025 eV，所发射电子轰击荧光屏后能产生明亮的光斑。