【摘 要】
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石墨相氮化碳(g-C3N4)较低的比表面积以及高的光生电子-空穴复合几率严重限制了其应用.以三聚氰胺[C3N3(NH2)3]为原料,采用模板剂法制备了高比表面积的石墨相氮化碳(p-C3N4),
【机 构】
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辽宁石油化工大学化学化工与环境学部,辽宁抚顺,113001
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石墨相氮化碳(g-C3N4)较低的比表面积以及高的光生电子-空穴复合几率严重限制了其应用.以三聚氰胺[C3N3(NH2)3]为原料,采用模板剂法制备了高比表面积的石墨相氮化碳(p-C3N4),并通过热聚合的方式将硫掺杂于p-C3N4中制备硫掺杂高比表面积石墨相氮化碳(S-p-C3 N4).通过XRD、FT-IR、BET、UV-Vis、PL对催化剂进行表征.并在500W氙灯(配以420 nm滤光片)照射下通过光催化降解罗丹明B、光催化还原CO2和光催化水解制氢3种方式对催化活性进行考察.结果 表明,硫掺杂能够有效地降低光生电子-空穴的复合几率,提高光催化活性.其中1.5％ S-p-C3N4表现出最佳活性,降解罗丹明B的速率是p-C3N4的15倍,生成CO和CH4的速率是p-C3N4的3.6、3.1倍,产氢速率分别是p-C3N4的4.83倍.且1.5％ S-p-C3N4催化剂循环使用5次后依然具有很高的催化活性.
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