【摘 要】
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Un-doped and copper-doped(Cu-doped)ZnO films were deposited on the silicon(111)substrates by using radio frequency sputtering technique.The pure copper chips(Cu
【出 处】
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IMP & HIRFL Annual Report
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Un-doped and copper-doped(Cu-doped)ZnO films were deposited on the silicon(111)substrates by using radio frequency sputtering technique.The pure copper chips(Cu-chips)were equably spread on the Zn target(>99.99%)and the relative sputtering area ratio of Cu-chips to the Zn target,α_(Cu),varied in the range of 0～3%.The sputtering chamber was evacuated to 5×10~(-3)Pa before a mixture gas of oxygen and
Un-doped and copper-doped ZnO films were deposited on the silicon (111) substrates by using radio frequency sputtering technique. Pure copper chips (Cu-chips) were equably spread on the Zn target (> 99.99% ) and the relative sputtering area ratio of Cu-chips to the Zn target, α - (Cu), varied in the range of 0 ~ 3%. The sputtering chamber was evacuated to 5 × 10 -3 Pa before a mixture gas of oxygen and
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