【摘 要】
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以改进后的高分子反应法制得了聚呋喃丙烯叉丙二酸-1,3-丙二酯,合成反应时间短,光敏侧基的引进程度高。其光刻应用的最佳曝光时间为8秒(80W汞灯),分辨率0.75μ,是一种高感度
【机 构】
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福建师大高分子研究所,福建师大高分子研究所,
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以改进后的高分子反应法制得了聚呋喃丙烯叉丙二酸-1,3-丙二酯,合成反应时间短,光敏侧基的引进程度高。其光刻应用的最佳曝光时间为8秒(80W汞灯),分辨率0.75μ,是一种高感度、高分辨率聚酯型光致抗蚀剂的新品种。
Polyfurpropene diformal acid-1,3-propanediol was obtained by the improved polymer reaction method. The synthesis reaction time was short and the introduction of photosensitive side groups was high. Its lithography application of the best exposure time of 8 seconds (80W mercury lamp), a resolution of 0.75μ, is a high sensitivity, high resolution polyester photoresist new varieties.
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