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系统综述了国内外采用金属预置层后硒化法制备Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜的研究进展,重点从预置层制备过程中靶材的选择、叠层方式以及后硒化过程中硒源种类和硒化方式的选择等几个方面对各种工艺的优点、存在的问题和可能的解决方案进行讨论,并对金属预置层后硒化法的发展前景和趋势进行了展望。
金属预置层后硒化法制备CIGS薄膜的研究进展
【摘 要】
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系统综述了国内外采用金属预置层后硒化法制备Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜的研究进展,重点从预置层制备过程中靶材的选择、叠层方式以及后硒化过程中硒源种类和硒化方式的选择等
【机 构】
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电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 浙江大学硅材料国家重点实验室;
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2014年02期
【基金项目】
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国家自然科学基金(21073029,51102039,51211140045);新世纪优秀人才支持计划(NCET-10-0296);西部之光人才培养计划联合学者项目(LHXZ200902);中国博士后科学基金(20100481375,201104640);中央高校基本科研业务费(103.1.2 E022050205)
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