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采用流态化ＣＶＤ包硅技术制得了表面均匀包覆ＳｉＯ２的Ｆｅ３Ｏ４磁粉，对该包硅Ｆｅ３Ｏ４磁粉的氧化机理和动力学进行了研究，结果表明，氧化反应机理符合三维球对称对散模，氧化反应活化能随包硅量的增加而增加，流化ＣＶＤ包硅能提高Ｆｅ３Ｏ４磁粉的抗氧化作用在于粒子表面形成了均匀的ＳｉＯ２保护层。
流态化CVD包硅的Fe3O4的氧化行为
【摘 要】
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采用流态化ＣＶＤ包硅技术制得了表面均匀包覆ＳｉＯ２的Ｆｅ３Ｏ４磁粉，对该包硅Ｆｅ３Ｏ４磁粉的氧化机理和动力学进行了研究，结果表明，氧化反应机理符合三维球对称对散模，氧化反应活化能随包硅量的增加而增加，流化
【机 构】
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华东理工大学技术化学物理研究所
【出 处】
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无机材料学报
【发表日期】
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2000年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金!29506045
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