【摘 要】
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本征非晶硅(a-Si:H)钝化是获得高效非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的关键技术之一,但由于非晶硅的结构复杂多变,至今仍无法对其结构与性能的关联进行简洁的线性表征。本研究采
【机 构】
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南昌大学光伏研究院,南昌大学理学院,中国电子科技集团公司第三十二研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(61741404),科技部国家重点研发计划课题(2018YFB1500403),南昌大学研究生创新专项资金资助项目(CX2018011)
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本征非晶硅(a-Si:H)钝化是获得高效非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的关键技术之一,但由于非晶硅的结构复杂多变,至今仍无法对其结构与性能的关联进行简洁的线性表征。本研究采用Sinton设备,测试不同工艺制备的双面a-Si:H薄膜钝化的N型单晶硅片的少子寿命,表征a-Si:H对硅片表面的钝化效果,采用椭圆偏振光谱仪测试拟合a-Si:H薄膜的折射率、消光系数、光学带隙等参数,分析它们与钝化效果的关联。发现:介电函数虚部ε2的峰值和薄膜禁带宽度大致呈现线性关系,高频折射率n∞与钝化后少子寿命呈线性关系。因介电函
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