紫外光固化聚硅氧烷的合成及性能研究

来源 :西安工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhshgu1983
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分别以乙烯基三乙氧基硅烷(A151)、γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(A174)为起始单体,采用水解缩聚的方法合成了两种含有不饱和侧基的聚硅氧烷,分别为PA151和PA174.用红外光谱(FTIR)、核磁共振(NMR)分析并确定了两种聚合物的结构,用凝胶渗透色谱(GPC)对聚合物的分子及分子量分布进行了表征,同时对聚合物的紫外光固化行为进行了研究.结果表明:两种聚合物均可紫外光固化,而且PA174的固化速率和最终双键转化率均比PA151高.利用差示扫描量热仪(DSC)、热重分析仪(TGA)对固化后产物的
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