荧光淬灭法研究黑豆凝集素Ⅰ微环境与构象的关系

来源 :四川大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:magic1213cam
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用KI、CsCl和丙烯酰胺对黑豆(Glycinemaxvar.)凝集素I(GMLI)进行内源荧光淬灭研究.天然黑豆凝集素Ⅰ在280nm波长激发下显示λmax为339nm的内源荧光发射光谱,表明凝集素荧光生色基团位于相对疏水的环境中;3种淬灭剂对GMLI的荧光淬灭属于动态淬灭机制.GML工分子的生色基团Trp残基对中性淬灭剂丙烯酰胺的可接近程度为100%,而对阴离子淬灭剂KI的可接近程度为81.6%,对阳离子淬灭剂CsCl的可接近程度为52.8%,表明GMLI中大部分Trp残基位于分子表面或近表面,只有小部
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